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三星冲击高端代工新挑战:削减 High-NA EUV 光刻机采购、被曝中止和 ASML 合建研究中心

       
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本站 8 月 20 日消息,韩媒 businesskorea 今天(8 月 20 日)发布博文,曝料称三星计划削减 high-na euv 采购规模,而且和 asml 联合创立研究中心项目也遇到诸多障碍。

三星冲击高端代工新挑战:削减 high-na euv 光刻机采购、被曝中止和 asml 合建研究中心

修饰后内容:

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图源:ASML三星于 2023G C M i # h 年 12 月和 ASML 签署了一份谅解备忘录(MOU),将在韩国首都p z c [ 0 k i 5 $A d @ ? ` #建立一个 EUV 联合研究中o | q j 0 l心。
本站援n D N R引消息C U – k $ 0 m F源报道,三星原本计划在未来 10 年内,采购 Twinscan EXE:5200、EXE:5400 和 EXE:5600 三款后续 Twinscan EXE:5000 High-NA 光刻机,而最新报道称三星已经通知 ASML,不仅削减 Twinscan EXE:5000 系列 E9 0 i i 6 A ! A GUV 光刻机 采购数量,而且后续B ? 4仅采购 EXE:5200
报道称这一决定是在副X o e Z * P K – 6董事长 Jun Young-hyun 被任命为 DS(设备解决方案)部门的新负责人,并重新审查正在进行的项目和投资之后做出的。
一位熟悉情况的业内人士说:
在京7 m ` f t 1 T z a畿道华城购买土地建造研究设施i a C E的过程以及设计和审批过程都在进行中,然而,随着三星决定减少设备引进,相关进程已完全( _ m x A 7停止。
联合研究中心是否会在其他地方建立,或者建立本身是否会被取消,将在今后的讨论中决定。

以上就是三星冲击高端代工新挑战:削减 High-NA EUV 光刻机采购、被曝中止和 ASML 合建研究中心的详细内容!

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