本站 9 月 3 日消息，据韩媒 the elec 昨日报道，三星正对 tokyo %ignore_a_1% (tel) 的acrevia gcb 气体团簇光束（本站注：gasclusterbeam）系统进行测试。tel 的 acrevia go # xcb 系统发布于今年 7 月 8 日，可通过气体团簇光束对 euv 光刻图案进行局部精确整形，从而修复图案缺陷、降低图案粗糙度。
业内人士认为 TEL 的 Acreo S ( hvia 系统可起到与应用材料 CentuP 3 X j D 1 u [ tra Sculpta 系统类似的作用，即直接对 EUV 曝光图案塑形，减少成本高昂的 EUV 多重曝光，进而缩短光刻流程并提升整体利润率。
此外 Acrevia 系统还可用于消除在 EUV 光刻错误中占约一半的随机错误，l a + ^ 5 / o L %提升产品良率。
TEL 相关人士表示潜在客户确实正在进行 Acrevia 系统测试，该设备预计将首先用于逻辑代工而非存储器领域。
此前三星u 6 O 3 x C电子已在 4nm 工艺上对应用材料的 Centura Sculpt_ 8 k & ) } a K Ha 进行了测试，如今又测试 TEL 的设备，旨在加强两大半导体设备供应商间的图案塑形订单竞争。
以上就是消息称三星电子测试 TELe Z @ [ 公司 Acrevia GCB 设备以改进 EUV 光刻工艺的详细内容！
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