【编者按】自2020年举办以来,IC风云榜已成为半导体行业的年度盛事。今年新增12项奖项,共设39项大奖,进一步关注半导体投资与退出、科技前沿领域贡献、项目创新以及技术“出海”与拓展。评委会由超过100家半导体投资联盟会员单位及500+行业CEO组成。获奖名单将于2025半导体投资年会暨IC– w L风云榜颁奖典礼上揭晓。
【候选企业】阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司(以下简称:欣奕新材)
【候选奖项】年度技术突破奖
【候选产品】12英寸集成电y t #路用248nm深紫外正性光刻胶:SKP10
1. 欣奕新0 Z K材:光刻胶领域的领军! K B i 8 ) x 2企业
欣P % ,奕新材自光刻胶产业起步,已成为国内领先的光刻胶供应商。作为中国大陆首家实现彩色/黑色显示光刻胶(RGB/BM)大规模量产的企业,欣奕新材填补了国内光刻胶领域的空白,有效缓解了关键原材料的依赖性。
2. 半导体光刻胶领域的创新者
欣奕新材在D P % | L半导体光刻胶领域也表现出色。拥有深厚的技术积累和由行业专家领衔的研发团队n $ R O,欣奕新材专注于高端集成电路和先进封装制3 9 X 8 ] 4 / Q程应用光刻胶的开发与生产。其KrF、I-li: | Cne和先进封装光刻胶产品已成功进入多家12英寸晶圆厂和先进封装产线,并获得订单。
3. 产业延伸与技术融合
依托在光刻胶领域的经验,欣奕新材不断进行产业技术融合和产品延伸。其研发的Il q E % TC用特种光刻胶,如高分辨光刻胶(CIS)和微透镜光刻胶,均为国内首创,并已通过客户认证,可应用于CIS、AR/VR等领域。
4. SKP1q Q 9 L S0:IC风云榜候选产品
欣奕新材凭借其明星产品SKP10角逐IC风云榜年度技术突破奖,成为候选企业。
SKP10:用于 12 英寸晶圆离子注入Y L ~ ` 4 5 O 9工艺的先进 KrF 光阻
SKP10 是一款专为 12 英寸晶圆制造中的离子注入工艺应用设计的 KrF 光阻。其卓越性能包括:
- 高深宽比(A/R):>7/1
- 高解析度(CD):250nm
- 宽工艺窗口
- 低驻波
- 卓2 ] N $ D q Q C越的抗离子注入性能
这些特性使 SKP10 能够灵活应用于不同膜厚(1-3m)的离子注入工艺层,满足多个成熟制程技术节点的晶圆制造需求。
SKP10 采用创新的树脂和光酸体系,实现了光刻胶# 1 _ @ ?的透光率、光酸扩散速度、显影速率和抗离子注入性能的精细调控。这有效解决了离子注入应用中的常见难题,例如塌陷、顶层损失、驻波和抗离子注入性能不足。
技术领先性:
SKP10 已申请多项发明专` j 6 % g =利,涵盖光致抗蚀剂及其制备方法、KrF 树脂及其制备方法等多个领域。其技术实力领先业界。
应用验, I | \ ^证:
SKP10 已在国内 12 英寸产线$ O j q 1 3 x进行工艺、电学和良率验证,表现优异。
【奖项申报入口】
2025 半导体投资年会暨 IC 风云榜颁奖典礼将于 202b * {4 年 12 月举办,奖项申报已启动。欢迎参与年度技术) ; 4 x ( k h N #突破奖评选,共赴行业盛宴!
【= s | = Z D i p年度技术突破奖】
表彰 2024 年度在技术创新领域取得重大突破的企业,为推动我国集成电路产E p V z ~业C N a v v ~ R ( %自主安全可控! 4 T w C y发P W –展做出贡P L = * , d ^ $ q献。
【报名条件】
- 2028 G \ i4 年发布的新技术或产品具有原创性重大技术创新,达到国际先进– 0 & W/s t \ h 4 # A f领先水平c & / Y Q .。
- 产品应用范围广,具有j & U L Z :良好市场前景,对全球\ z v i p和国内半导U t 2 @ h t p _体产业发展起到重要作用。
【评选标准】
- 技术的原始创新性(50%)
- 技术或产品的主要性能和指标(30%)
- 产品的市^ 3 8 Q N q h场前景及经济社会效益(20%)
以上就是k 7 J u N M !【IC风云榜候选企业120】国内光刻r h 8 5胶头部企业,欣p H z . ( D = X U奕新材明星产品SKP10助力产业升级的详细内容!