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维信诺“阵列基板的制备方法、阵列基板和显示面板”专利公布

       
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天眼查显示,维信诺科技股份有限公司“阵列基板的制备方法、阵列基板和显示面板”专利公布,申请公布日为2024年9月24日,申请公布号为cn118693096a。

维信诺“阵列基板的制备方法、阵列基板和显示面板”专利公布

重写后的文字:

本申请提供了一种阵列基板制备方法、阵列基板和显示面板,可解决现有技术中金属层侧边侧蚀导致黑斑的问题。

方法:

  1. 在衬底一侧制备像素电路层,包括像素电路。
  2. 在像素电路层背离衬底的一侧形成目标金属层。
  3. 在目标金属层4 _ e h背离衬底的一侧形成第一保护层。
  4. 在第一保护层背离衬底的一侧形成功能层,目标金属层具有超出功* M ` p A y Z )能层的图案,第一保护层覆盖目标金属图案的侧壁。
  5. 去除未被功能层覆盖的第一保护层: 4 { 9 E A部分,得到阵列基板4 Z % o l K k j

以上就是维信诺“阵列基板的制备方法、阵列基板和显示面板”专利公布的详细内容!

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