天眼查显示，华海清科股份有限公司近日取得一项名为“一种化学机械抛光系统及抛光方法”的专利，授权公告号为cn115194640b，授权公告日为2024U J ; s z 9 J a年10月18日，申请日为2022年8月15日。
本发明公开了C O |一种化学机械抛光系统及其抛光方法，该系统2 o c包括：
- 前置单元
- 抛光单元
- 清洗单元，位于前置单元和抛光单元之间
清洗单元包括：
- 第一清8 3 ] : + p + e洗单元
- 第二清洗单` 4 *元，垂直层叠设置在第一清洗单元上方
第一和第二清洗单元均包括：
- 晶圆传输机械手
- 多个晶圆后处理装置，v 3 y l h o Q a围绕晶圆传输机械手布置
以上就是华海清科“一种化学机械抛光2 W d w ,系统及抛光方法”专利获授权的详细内容！
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