北方华创微电子装备有限公司近日公布一项名为“半导体工艺腔室、设备及密封圈在位检测方法”的新专利（申请公布号：cn118866737a，申请公布日：2024年10月29日）。* = B 1 ( i Z d m该专利技术应用于半导体工艺领域，旨在提升k ! K半导体= u R 9 $工艺腔室的密封性能。
该专利设计了一种改进的半导体工艺腔室结构，包括工艺门和工艺管。工艺门上设有环形槽，槽内嵌入密封圈，并开设多个真空吸附孔，这些孔口均匀分E b ) % g a布在环形槽底部并连接真空源，确保密封圈牢固固定。工艺管底部设有开口，工艺! , e = E门关闭时，环形槽与工艺管底部紧密连接，密封圈夹在两者之间，环绕开口外周形成密封。 此设计显著增强了r O 0 X Q密封圈的稳定性，有效防止其从环形槽中脱落。
以上就是北方华创“半导体工艺腔室、设备及密封圈在位检测方法”专利公布的详细内容！
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